紅外加熱爐,快速退火爐RTP600專為半導體高溫處理設計，支持500℃~1000℃范圍內(nèi)的氧化/擴散/快速退火工藝，采用雙層21×1kW高功率燈管，實現(xiàn)150℃/s極速升溫控制，通過水冷鋁質(zhì)外殼、石英內(nèi)腔確保溫度均勻性，兼容2~6英寸晶圓片，結合精密氣體控制提供高效解決方案。

生產(chǎn)地址：蘇州市
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-12-04
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與溫控技術、原位力學技術等相關的產(chǎn)品，如晶圓加熱系統(tǒng)、快速退火爐、高低溫試驗箱等，可為客戶提供個性化定制。

果果儀器RTP600快速退火爐：專為半導體高溫處理設計，支持500℃~1000℃范圍內(nèi)的氧化/擴散/快速退火工藝，采用雙層21×1kW高功率燈管，實現(xiàn)150℃/s極速升溫控制，通過水冷鋁質(zhì)外殼、石英內(nèi)腔確保溫度均勻性，兼容2~6英寸晶圓片，結合精密氣體控制提供高效解決方案。

快速退火爐RTP600

快速退火爐RTP600特點：

• 控溫速率：最大升溫速率：150℃/s

• 載樣臺：2~6英寸圓形襯底石英載片臺

• 腔室可升級真空

• 高精度控溫

• 專業(yè)溫控軟件
• 支持定制

快速退火爐RTP600參數(shù)：

型號	RTP600
腔體	石英腔體
溫控范圍	上下雙層加熱，最高溫度1000℃
控溫速率	最大升溫速率：150℃/s
載樣臺	2~6英寸圓形襯底石英載片臺
腔室	真空/氣氛
功率	21kW
外形尺寸	534mm608mm272mm
凈重	42kg

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